詳情介紹
精密光學(xué)平臺(tái)機(jī)械機(jī)構(gòu)、特點(diǎn)、外形設(shè)計(jì)與“氣墊式精密隔振平臺(tái)”相同，不同之處僅是未加氣墊，該型號(hào)的平臺(tái)為廣大用戶提供了更多的選擇機(jī)會(huì)。通常采用良好的電機(jī)和傳感器技術(shù)，可以提供亞微米級(jí)別的平移和旋轉(zhuǎn)控制，使得用戶可以在一個(gè)高度準(zhǔn)確的位置上對(duì)樣品進(jìn)行操作。為了達(dá)到更高的控制精度，通常結(jié)合了良好的反饋系統(tǒng)和精密測(cè)量設(shè)備，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)物體位置、速度、振動(dòng)等多個(gè)方面的高度保持與控制。在光學(xué)試驗(yàn)、顯微學(xué)以及半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域，通常需要將樣品或器件放置在一個(gè)高度穩(wěn)定精密控制的平臺(tái)上進(jìn)行操作。是一種專(zhuān)用于實(shí)現(xiàn)這一目的的精密運(yùn)動(dòng)控制裝置。
精密光學(xué)平臺(tái)的應(yīng)用：
顯微學(xué)：是一個(gè)關(guān)鍵的工具，用于顯微鏡圖像獲取、分析和處理過(guò)程中樣本的調(diào)整和擺放。
半導(dǎo)體制造：在芯片制造、線寬校準(zhǔn)和接觸式掩模制作(photolithography)等應(yīng)用中，都發(fā)揮著重要作用，提供高精度的位置和角度控制。
光刻：是用于將納米或微米尺度部件寫(xiě)入大型平板中的必要工具之一。
太陽(yáng)能電池：在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中，被用于設(shè)備和材料的對(duì)準(zhǔn)和精細(xì)控制。
精密光學(xué)平臺(tái)的維護(hù)保養(yǎng)：
1.保持平臺(tái)表面干燥、清潔，防止灰塵等附著在上面影響穩(wěn)定性。
2.平臺(tái)底部安裝防震墊可以抑制震動(dòng)，增強(qiáng)其精度和穩(wěn)定性。
3.根據(jù)制造商說(shuō)明，使用適當(dāng)?shù)臐?rùn)滑劑定期進(jìn)行潤(rùn)滑，確保運(yùn)動(dòng)間隙不會(huì)磨損過(guò)度。
4.要避免濕度、較高溫度和塵土過(guò)多的環(huán)境以及長(zhǎng)時(shí)間不使用的情況下應(yīng)該妥善存放已平衡并固定好的平臺(tái)。
精密光學(xué)平臺(tái)特點(diǎn)：
高導(dǎo)磁不銹鋼面板。
25×25M 6安裝螺孔方陣。
蜂窩結(jié)構(gòu)隔振層面、固有頻率低、隔震性能好。
中碳鋼墻板，剛性好。
主要參數(shù)
平面粗糙度不大于0.8μm
平面度不大于0.05mm/m2
規(guī)格
1200×800×800mm
1500×1000×800mm
1800×1200×800mm
2400×1200×800mm
其它尺寸可以定做
產(chǎn)品型號(hào)：ZK-1